Incremental Control Techniques for Layout Modification of Integrated Circuits
نویسندگان
چکیده
منابع مشابه
An Automatic Layout Design Aid for Analog Integrated Circuits
This paper presents an automatic layout design system for analog integrated circuits. It is tailed for analog circuit designers so that they can bring their special knowledge and experience into the synthesis process to create high quality layouts. Designers can write and maintain their own technology and application independent module generators for subcircuits in a module generator environmen...
متن کاملA Comprehensive Layout Methodology and Layout-Specific Circuit Analyses for Three-Dimensional Integrated Circuits
In this paper, we describe a comprehensive layout methodology for bonded three-dimensional integrated circuits (3D ICs). In bonded 3D integration technology, parts of a circuit are fabricated on different wafers, and then, the wafers are bonded with a glue layer of Cu or polymer based adhesive. Using our layout methodology, designers can layout such 3D circuits with necessary information on int...
متن کاملLayout-Specific Circuit Evaluation in 3-D Integrated Circuits
In this paper, we describe a comprehensive layout methodology for bonded three-dimensional integrated circuits (3D ICs). In bonded 3D integration technology, parts of a circuit are fabricated on different wafers, and then, the wafers are bonded with a glue layer of Cu or polymer based adhesive. Using our layout methodology, designers can layout such 3D circuits with necessary information on int...
متن کاملmodification of nanoclay for improving the physico-mechanical properties of dental adhesives
هدف اصلی این مطالعه تهیه یک سامانه نوین چسب عاجی دندانی بر پایه نانورس پیوند شده با پلی متاکریلیک اسید، نانورس پیوند شده با پلی اکریلیک اسید، مخلوط نانوسیلیکا و نانورس پیوند شده با پلی متاکریلیک اسید، مخلوط نانوسیلیکا و نانورس پیوند شده با پلی اکریلیک اسید و نانورس پیوند شده با کیتوسان اصلاح شده با گلایسیدیل متاکریلات است. پیوند پلی متاکریلیک اسید و پلی اکریلیک اسید بر ری سطح نانورس در حضور و ...
Evaluation of Vapor Deposition Techniques for Membrane Pore Size Modification
The suitability of three vapor deposition techniques for pore size modification was evaluated using polycarbonate track etched membranes as model supports. A feature scale model was employed to predict the pore geometry after modification and the resulting pure water flux. Physical vapor deposition (PVD) and pulsed plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD), naturally, form asymmetric na...
متن کاملذخیره در منابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ژورنال
عنوان ژورنال: Advances in Science, Technology and Engineering Systems Journal
سال: 2017
ISSN: 2415-6698
DOI: 10.25046/aj0203151